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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:112

题名/责任者:
集成电路掩模设计:基础版图技术/(美)塞因特(Christopher Saint),塞因特(Judy Saint)著 周润德,金申美译
出版发行项:
北京:清华大学出版社,2006.1
ISBN及定价:
7-302-10860-9/CNY59.00
载体形态项:
435页;23cm
并列正题名:
IC Mask Design:Essential Layout Techniques
其它题名:
基础版图技术
丛编项:
国外大学优秀教材-----微电子类系列:翻译版
个人责任者:
(美) 塞因特 S. (Christopher, Saint)
个人责任者:
(美) 塞因特 S. (Judy, Saint)
个人次要责任者:
周润德
个人次要责任者:
金申美
学科主题:
集成电路工艺-掩模-高等学校-教材
中图法分类号:
TN402
出版发行附注:
由美国麦格劳-希尔教育出版(亚洲)公司授权出版发行
提要文摘附注:
全书共分为11章,覆盖了数字电路、模拟电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术,讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式,最后还提供了两个实例研究即CMOS运算放大器与双极型混频器的版图设计。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TN402/362.3 70884171   样本书阅览室(密集书库136)     非可借
TN402/362.3 70884172   自然书库(3F东)     可借 现代技术部(1F)
TN402/362.3 70884173   自然书库(3F东)     可借 现代技术部(1F)
TN402/362.3 70884174   自然书库(3F东)     可借 现代技术部(1F)
TN402/362.3 70884175   自然书库(3F东)     可借 总借还书处(2F)
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