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题名/责任者:

完美曝光/(美)Rick Sammon著 张波译

出版发行项:

北京:人民邮电出版社,2010

ISBN及定价:

978-7-115-21580-2/CNY65.00

载体形态项:

14,215页:彩图;26cm

并列正题名:

Rick Sammon’s exploring the light

个人责任者:

(美) 萨蒙 (Sammon, Rick) 著

个人次要责任者:

张波 译

学科主题:

曝光-摄影技术

中图法分类号:

TB811

版本附注:

由W.W.Norton & Company公司授权出版

责任者附注:

CIP题责任者汉译姓：萨蒙

提要文摘附注:

本书讲解了曝光在摄影中的重要作用，以及获取出色曝光的途径和技法。从直接影响曝光的两大因素——快门速度和光圈开始讲起，分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等，并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。

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