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题名/责任者:

等离子体浸泡式离子注入与沉积技术/汤宝寅, 王浪平编著

出版发行项:

北京:国防工业出版社,2012

ISBN及定价:

978-7-118-07892-3 精装/CNY68.00

载体形态项:

239页:图;24cm

并列正题名:

Plasma immersion ion implantation and deposition technique

个人责任者:

汤宝寅 编著

个人责任者:

王浪平 编著

学科主题:

工程材料-表面改性

中图法分类号:

TB3

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书介绍了用于材料表面改性的等离子体浸泡式离子注入与沉积(PIIID)技术。主要内容包括PIIID技术发展概况、基础理论、PIIID设备关键部件设计、PIIID鞘层动力学计算机理论数值模拟与应用以及机械零件的PIIID复合、批量处理工艺与应用等。本书也给出了PIIID技术最新进展与研究成果。本书涉及多门学科和技术, 专业知识面宽广, 内容系统全面, 实用性强。

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