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题名/责任者:

集成电路制造技术/张亚非, 段力编著

出版发行项:

上海:上海交通大学出版社,2018.10

ISBN及定价:

978-7-313-18651-5/CNY88.00

载体形态项:

439页:图;26cm

丛编项:

前沿电子信息专业教材系列

个人责任者:

张亚非 编著

个人责任者:

段力 编著

学科主题:

集成电路工艺

中图法分类号:

TN405

责任者附注:

张亚非, 上海交通大学微纳米科学技术研究院教授。段力, 上海交通大学微纳米学院电子学系副教授。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书主要讲述集成电路与微纳制造工艺技术, 既有基本原理和工艺技术的阐述, 也有国内外近期发展状况的介绍。本书把集成电路的工艺技术分类为图形化 (光刻)、加法 (薄膜的技术) 减法 (刻蚀技术) 乘除法 (离子注入、silicide) 及其集成电路工程学 (良率、可靠性) 和集成电路后勤工作 (超净间、IC衍生产业链) 几大类, 便于学生掌握、记忆和类推。

使用对象附注:

本书可作为高等院校微电 子学和半导体专业本科生的教材, 也可供有关专业本科生研究生及工程技术人员阅读参考

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