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题名/责任者:

薄膜物理与技术/杨邦朝，王文生[编]

出版发行项:

成都:电子科技大学出版社,1994

ISBN及定价:

7-81016-749-9/CNY28.00

载体形态项:

237页;26cm

个人责任者:

杨邦朝 编

个人责任者:

王文生 编

学科主题:

真空技术-真空物理学

中图法分类号:

TB71

一般附注:

高等学校工科电子类规划教材

提要文摘附注:

本书主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。书中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。同时介绍了薄膜的的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。

使用对象附注:

本书适用于高等学校电子材料与元器件专业的学生

电子资源:

http://www.bookuu.com/kgsm/ts/2010/06/29/1782609.shtml

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