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题名/责任者:

光刻机像质检测技术.上册/王向朝, 戴凤钊等著

出版发行项:

北京:科学出版社,2021

ISBN及定价:

978-7-03-067354-1 精装/CNY248.00

载体形态项:

xii, 529页:图 (部分彩图);27cm

个人责任者:

王向朝 著

个人责任者:

戴凤钊 著

学科主题:

光刻设备-影象质量-质量检验

中图法分类号:

TN305.7

题名责任附注:

作者名单题: 王向朝, 李思坤, 段立峰, 施伟杰, 唐锋等6人

出版发行附注:

国家科学技术学术著作出版基金资助出版

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，介绍了作者团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。书中介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。

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