MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：43
- 题名/责任者:
- 先进计算光刻/李艳秋[等]著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2024
- ISBN及定价:
- 978-7-03-078124-6 精装/CNY130.00
- 载体形态项:
- 233页:图;24cm
- 个人责任者:
- 李艳秋 著
- 学科主题:
- 集成电路工艺-电子束光刻
- 中图法分类号:
- TN405.98
- 一般附注:
- 国家科学技术学术著作出版基金资助出版
- 题名责任附注:
- 著者还有：马旭、孙义钰、袁淼
- 提要文摘附注:
- 本书介绍作者在20余年从事光刻机研发中，建立的先进计算光刻技术，包括矢量计算光刻、快速－全芯片计算光刻、高稳定－高保真计算光刻、光源－掩模－工艺多参数协同计算光刻等，能够实现快速－高精度－全曝光视场－低误差敏感度的高性能计算光刻。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN405.98/452 | 60325767 |  临安自科(N-Z)(2F)(信息工程学院)
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可借 | 临安自科(N-Z)(2F)(信息工程学院) | |
| TN405.98/452 | 60325768 | 临安自科(N-Z)(2F)(信息工程学院)
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可借 | 临安自科(N-Z)(2F)(信息工程学院) | |
| TN405.98/452 | 72584003 | 自然书库（3F东）
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可借 | 自然书库（3F东） | |
| TN405.98/452 | 72584004 | 自然书库（3F东）
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可借 | 自然书库（3F东） |
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