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题名/责任者:

真空镀膜原理与技术/方应翠主编

出版发行项:

北京:科学出版社,2014.2

ISBN及定价:

978-7-03-039898-7/CNY38.00

载体形态项:

213页:图;24cm

个人责任者:

方应翠 主编

学科主题:

真空技术-镀膜

中图法分类号:

TN305.8

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书阐述了真空镀膜的应用，以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程，探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。

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