MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：43
- 题名/责任者:
- 数码摄影工坊.曝光/(美)Jeff Wignall著 张波译
- 出版发行项:
- 北京:人民邮电出版社,2008
- ISBN及定价:
- 978-7-115-18499-3/CNY59.00
- 载体形态项:
- 270页:彩图;21cm
- 并列正题名:
- Exposure photo workshop
- 个人责任者:
- (美) 威格纳尔 (Wignall, Jeff) 著
- 个人次要责任者:
- 张波 译
- 学科主题:
- 数码照相机-摄影光学
- 学科主题:
- 数码照相机-摄影技术
- 中图法分类号:
- TB86
- 版本附注:
- 由Wiley Publishing公司授权出版
- 提要文摘附注:
- 本书首先介绍了曝光的艺术、曝光控制方法、测光、光圈与景深等知识，然后介绍了各种情况下的曝光技巧，其中包括移动对象的曝光、使用自然光进行曝光、各种复杂情况下的曝光、夜间曝光、日出日落曝光和闪光灯摄影。
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
| TB86/542 | 71487373 | - |  样本书阅览室（密集书库136）
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非可借 |
| TB86/542 | 71487374 | - | 自然科学第二书库（7F）
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可借 |
| TB86/542 | 71487375 | - | 自然科学第二书库（7F）
|
可借 |
| TB86/542 | 71487376 | - | 自然科学第二书库（7F）
|
可借 |
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