MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：28
- 题名/责任者:
- 薄膜技术与应用/冯丽萍, 刘正堂编著
- 出版发行项:
- 西安:西北工业大学出版社,2016
- ISBN及定价:
- 978-7-5612-4739-6/CNY39.00
- 载体形态项:
- 222页:图;26cm
- 丛编项:
- 西北工业大学研究生高水平课程体系建设丛书
- 个人责任者:
- 冯丽萍 编著
- 个人责任者:
- 刘正堂 编著
- 学科主题:
- 薄膜技术
- 中图法分类号:
- TB43
- 书目附注:
- 有书目 (第217-222页)
- 提要文摘附注:
- 本书主要内容包括真空技术基础、真空蒸发镀膜、分子束外延生长、溅射镀膜、激光脉冲沉积、离子镀和离子束沉积、化学气相沉积、原子层沉积(ALD)镀膜、溶液镀膜法和自组装膜等。
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TB43/314 | 72502805 |  自然科学第二书库（7F）
|
可借 | 自然科学第二书库（7F） |
显示全部馆藏信息
CADAL相关电子图书
借阅趋势
同名作者的其他著作(点击查看)
收藏到： 管理书架