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MARC状态：已编 文献类型：西文图书 浏览次数：71

题名/责任者:
Glew Discharge Processes;Sputtering and Plasma Etching. Chapman,Brian.
出版发行项:
N.Y. Wiley 1980
载体形态项:
406c
附加个人名称:
Chapman,Brian.
中图法分类号:
O461.2
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
O461.2/C1 40028642   外文书库(影)（密集书库）     可借
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