MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：55
- 题名/责任者:
- 最好的UI设计师:每一次思考, 都是对自己更好的完善/颜伟著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2018
- ISBN及定价:
- 978-7-121-33641-6/CNY79.00
- 载体形态项:
- 210页:彩图;24cm
- 其它题名:
- 每一次思考, 都是对自己更好的完善
- 个人责任者:
- 颜伟 著
- 学科主题:
- 人机界面-程序设计
- 中图法分类号:
- TP311.1
- 责任者附注:
- 颜伟, 百万人气站酷推荐设计师, 工业设计专业出身。入行早年间曾和友人一同在武汉创办社区便利店外送平台, 后加入一家向互联网转型的传统企业。
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书共分为概述、陷阱、精进、创新、范例、价值、协作、适配、验收、未来10章, 包括一场冒险、兴趣驱不动、高薪挖人、工作内容、职能的演变等内容。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TP311.1/0204 | 72248900 |  自然书库（3F东）
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可借 | 自然书库（3F东） | |
| TP311.1/0204 | 72248901 | 自然书库（3F东）
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可借 | 自然书库（3F东） | |
| TP311.1/0204 | 72248902 | 自然书库（3F东）
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可借 | 自然书库（3F东） |
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