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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：33

题名/责任者:
离子束沉积薄膜技术及应用/刘金声著
出版发行项:
北京:国防工业出版社,2003.1
ISBN及定价:
7-118-02882-7 精装/CNY34.00
载体形态项:
434页:图, 表格;21cm
并列正题名:
Ion beam deposition film technology and application
个人责任者:
刘金声 著
学科主题:
薄膜技术
中图法分类号:
TB43
书目附注:
本书含参考文献
提要文摘附注:
本书系统地介绍了IBD薄膜技术的原理、方法及应用, 重点放在技术基础论述……
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TB43/084 70690389   样本书阅览室（密集书库136）     非可借
TB43/084 70690390   自然科学第二书库（7F）     可借
TB43/084 70690391   自然科学第二书库（7F）     可借
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