MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：53
- 题名/责任者:
- 图说集成电路制造工艺/孙洪文编著
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2023
- ISBN及定价:
- 978-7-122-43290-2/CNY99.00
- 载体形态项:
- 271页:图 (部分彩图);24cm
- 个人责任者:
- 孙洪文 编著
- 学科主题:
- 集成电路工艺-图解
- 中图法分类号:
- TN405
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书首先用轻松有趣的语言介绍了半导体行业的发展史 ; 接着将整个芯片制造流程分为“加”“减”“乘”“除”四类, 用图说的形式, 全面细致地讲解了氧化、化学气相淀积、物理法沉积薄膜、扩散、离子注入、清洗硅片、刻蚀、化学机械抛光、离子注入退火、回流、制备合金、光刻等核心工艺, 同时对半导体材料、净化间、化学试剂、气体、半导体设备、掩膜版等必需条件也做了介绍。
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN405/1301 | 72562001 |  自然书库（3F东）
|
可借 | 现代技术部（1F） | |
| TN405/1301 | 72562002 | 自然书库（3F东）
|
可借 | 自然书库（3F东） | |
| TN405/1301 | 72562003 | 自然书库（3F东）
|
可借 | 自然书库（3F东） |
显示全部馆藏信息
CADAL相关电子图书
借阅趋势
同名作者的其他著作(点击查看)
收藏到： 管理书架