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题名/责任者:

超大规模集成电路先进光刻理论与应用/韦亚一著

出版发行项:

北京:科学出版社,2016

ISBN及定价:

978-7-03-048268-6 精装/CNY260.00

载体形态项:

xv, 558页, [20] 页图版:图 (部分彩图);25cm

个人责任者:

韦亚一 著

学科主题:

超大规模集成电路-光刻系统-研究

中图法分类号:

TN470.5

出版发行附注:

中国科学院科学出版基金资助出版

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。

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