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题名/责任者:

金刚石膜制备与应用.下卷/吕反修主编

出版发行项:

北京:科学出版社,2014.8

ISBN及定价:

978-7-03-041823-4 圆脊精装/CNY188.00

载体形态项:

736页:图;24cm

丛编项:

纳米科学与技术

个人责任者:

吕反修 主编

学科主题:

类金刚石膜-研究

中图法分类号:

TB43

提要文摘附注:

本卷为下卷。本书比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积（CVD）金刚石膜的制备、组织结构和性能表征，金刚石膜化学气相沉积理论，以及在电学（电子学）、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用，在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书分六篇、共29章，第一篇：金刚石膜的制备；第二篇：金刚石膜组织结构和性能表征；第三篇：金刚石膜化学气相沉积理论；第四篇：金刚石膜的应用；第五篇：纳米金刚石膜制备与应用；第六篇：金刚石相关材料的制备与应用

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