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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:34

题名/责任者:
Zemax光学设计实践基础/施跃春,吴平辉,陈家璧编著
出版发行项:
北京:电子工业出版社,2023
ISBN及定价:
978-7-121-46624-3/CNY42.00
载体形态项:
194页:图,照片;26cm
个人责任者:
施跃春 编著
个人责任者:
吴平辉 编著
个人责任者:
陈家璧 编著
学科主题:
光学设计-研究
中图法分类号:
TN202
一般附注:
光电信息科学与工程类专业精品教材
提要文摘附注:
本书首先给出Zemax光学设计入门操作、优化的基本概念、透镜基本原理与基本优化设计、平面系统设计、光束限制设计与多重结构设计、光能计算、像差计算;然后给出像质评价、Zemax优化设计方法、面向光通信模块的4个设计案例和面向成像镜头的三片式成像系统及苹果手机镜头设计案例;最后给出超构透镜与Zemax联合设计案例。
全部MARC细节信息>>
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TN202/065 60325841   临安自科(N-Z)(2F)(信息工程学院)     可借 临安自科(N-Z)(2F)(信息工程学院)
TN202/065 60325842   临安自科(N-Z)(2F)(信息工程学院)     可借 临安自科(N-Z)(2F)(信息工程学院)
TN202/065 72580406   自然书库(3F东)     可借 自然书库(3F东)
TN202/065 72580407   自然书库(3F东)     可借 自然书库(3F东)
TN202/065 72580408   自然书库(3F东)     可借 自然书库(3F东)
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