MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:117
- 题名/责任者:
- 集成电路掩模设计:基础版图技术/(美)塞因特(Christopher Saint),塞因特(Judy Saint)著 周润德,金申美译
- 出版发行项:
- 北京:清华大学出版社,2006.1
- ISBN及定价:
- 7-302-10860-9/CNY59.00
- 载体形态项:
- 435页;23cm
- 并列正题名:
- IC Mask Design:Essential Layout Techniques
- 其它题名:
- 基础版图技术
- 丛编项:
- 国外大学优秀教材-----微电子类系列:翻译版
- 个人责任者:
- (美) 塞因特 S. (Christopher, Saint) 著
- 个人责任者:
- (美) 塞因特 S. (Judy, Saint) 著
- 个人次要责任者:
- 周润德 译
- 个人次要责任者:
- 金申美 译
- 学科主题:
- 集成电路工艺-掩模-高等学校-教材
- 中图法分类号:
- TN402
- 出版发行附注:
- 由美国麦格劳-希尔教育出版(亚洲)公司授权出版发行
- 提要文摘附注:
- 全书共分为11章,覆盖了数字电路、模拟电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术,讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式,最后还提供了两个实例研究即CMOS运算放大器与双极型混频器的版图设计。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TN402/362.3 | 70884171 | 样本书阅览室(密集书库136) | 非可借 | ||
TN402/362.3 | 70884172 | 自然书库(3F东) | 可借 | 现代技术部(1F) | |
TN402/362.3 | 70884173 | 自然书库(3F东) | 可借 | 现代技术部(1F) | |
TN402/362.3 | 70884174 | 自然书库(3F东) | 可借 | 现代技术部(1F) | |
TN402/362.3 | 70884175 | 自然书库(3F东) | 可借 | 总借还书处(2F) |
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