MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：83
- 题名/责任者:
- 薄膜技术与薄膜材料/石玉龙, 闫凤英编著
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2015
- ISBN及定价:
- 978-7-122-22618-1/CNY30.00
- 载体形态项:
- 242页:图;21cm
- 个人责任者:
- 石玉龙 编著
- 个人责任者:
- 闫凤英 编著
- 学科主题:
- 薄膜技术-研究
- 学科主题:
- 薄膜-工程材料-研究
- 中图法分类号:
- TB43
- 中图法分类号:
- TB383
- 书目附注:
- 有书目 (第233-242页)
- 提要文摘附注:
- 本书共分4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化、电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TB43/114 | 72009648 | - |  自然科学第二书库（7F）
|
可借 | 现代技术部（1F） |
| TB43/114 | 72009649 | - | 自然科学第二书库（7F）
|
可借 |
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