MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:26
- 题名/责任者:
- 完美曝光/(美)Rick Sammon著 张波译
- 出版发行项:
- 北京:人民邮电出版社,2010
- ISBN及定价:
- 978-7-115-21580-2/CNY65.00
- 载体形态项:
- 14,215页:彩图;26cm
- 个人责任者:
- (美) 萨蒙 (Sammon, Rick) 著
- 个人次要责任者:
- 张波 译
- 学科主题:
- 曝光-摄影技术
- 中图法分类号:
- TB811
- 版本附注:
- 由W.W.Norton & Company公司授权出版
- 责任者附注:
- CIP题责任者汉译姓:萨蒙
- 提要文摘附注:
- 本书讲解了曝光在摄影中的重要作用,以及获取出色曝光的途径和技法。从直接影响曝光的两大因素——快门速度和光圈开始讲起,分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等,并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
TB811/440 | 71575206 | - | 样本书阅览室(密集书库136) | 非可借 |
TB811/440 | 71575207 | - | 自然科学第二书库(7F) | 可借 |
TB811/440 | 71575208 | - | 自然科学第二书库(7F) | 可借 |
TB811/440 | 71575209 | - | 自然科学第二书库(7F) | 可借 |
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