MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:97
- 题名/责任者:
- 氮化物宽禁带半导体材料与电子器件/郝跃,张金风,张进成著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2013
- ISBN及定价:
- 978-7-03-036717-4 精装/CNY86.00
- 载体形态项:
- 11,303页:图;25cm
- 丛编项:
- 半导体科学与技术丛书
- 个人责任者:
- 郝跃 著
- 个人责任者:
- 张金风 著
- 个人责任者:
- 张进成 著
- 学科主题:
- 氮化物-禁带-半导体材料
- 学科主题:
- 氮化物-禁带-电子器件
- 中图法分类号:
- TN304
- 提要文摘附注:
- 本书以作者多年的研究成果为基础,系统地介绍了Ⅲ族氮化物宽禁带半导体材料与电子器件的物理特性和实现方法,重点介绍了半导体高电子迁移率晶体管(HEMT)与相关氮化物材料。全书共14章,内容包括:氮化物材料的基本性质、异质外延方法和机理,HEMT材料的电学性质,AlCaN/GaN和InAlN/GaN异质结的生长和优化、材料缺陷分析,GaNHEMT器件的原理和优化、制备工艺和性能、电热退化分析,GaN增强型HEMT器件和集成电路,GaN MOS-HEMT器件,最后给出了该领域未来技术发展的几个重要方向。
全部MARC细节信息>>
索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TN304/4601 | 71855432 | - | 自然书库(3F东) | 可借 | 现代技术部(1F) |
TN304/4601 | 71855433 | - | 自然书库(3F东) | 借出-应还日期:2024-09-17 | 现代技术部(1F) |
显示全部馆藏信息
CADAL相关电子图书
借阅趋势
同名作者的其他著作(点击查看)
收藏到: 管理书架