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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:42

题名/责任者:
摄影曝光控制/于文灏编著
出版发行项:
上海:上海交通大学出版社,2018
ISBN及定价:
978-7-313-20423-3/CNY68.00
载体形态项:
127页, 14页图版:图 (部分彩图);24cm
并列正题名:
Photographic exposure control
个人责任者:
于文灏 编著
学科主题:
曝光控制-研究
中图法分类号:
TB811
书目附注:
有书目和索引
提要文摘附注:
本书讲述曝光控制是一项复杂的系统工作,它涵盖了“技术性正确曝光”和“创意性准确曝光”两个层面的内容,涉及摄影者对拍摄主题的规划和对画面最终效果的预先想象,以及对光圈、快门、感光度、量光、订光、滤光镜等技术手段的应用和后期制作方法。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TB811/103/2 72306075   自然科学第二书库(7F)     可借 自然科学第二书库(7F)
TB811/103/2 72306076   自然科学第二书库(7F)     可借 自然科学第二书库(7F)
TB811/103/2 72306077   自然科学第二书库(7F)     可借 自然科学第二书库(7F)
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