检索到 11 条 分类号=TN305.7 的结果
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中文图书1.半导体干法刻蚀技术:原子层工艺 TN305.7/420
馆藏复本：5
可借复本：5 (美)索斯藤·莱尔著
机械工业出版社 2023
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中文图书2.半导体干法刻蚀技术 TN305.7/671
馆藏复本：3
可借复本：3 (日)野尻一男著
机械工业出版社 2024
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中文图书3.半导体湿法刻蚀加工技术 TN305.7/710
馆藏复本：3
可借复本：3 陈云,陈新著
科学出版社 2023
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中文图书4.半导体先进光刻理论与技术 TN305.7/226
馆藏复本：1
可借复本：1 (德) 安德里亚斯·爱德曼著
化学工业出版社 2023
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中文图书5.等离子体刻蚀工艺及设备 TN305.7/414
馆藏复本：3
可借复本：3 主编赵晋荣
电子工业出版社 2023
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中文图书6.激光热敏光刻:原理与方法:principle and method TN305.7/214
馆藏复本：4
可借复本：4 魏劲松著
清华大学出版社 2022
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中文图书7.极紫外光刻 TN305.7/404
馆藏复本：4
可借复本：4 (美) 哈利·杰·莱文森著
上海科学技术出版社 2022
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中文图书8.光刻机像质检测技术.上册 TN305.7/124:V2
馆藏复本：1
可借复本：0 王向朝, 戴凤钊等著
科学出版社 2021
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中文图书9.光刻机像质检测技术.下册 TN305.7/124
馆藏复本：1
可借复本：0 王向朝, 戴凤钊等著
科学出版社 2021
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中文图书10.衍射极限附近的光刻工艺 TN305.7/210
馆藏复本：1
可借复本：0 伍强等编著
清华大学出版社 2020
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中文图书11.激光等离子体极紫外光刻光源 TN305.7/384
馆藏复本：3
可借复本：3 窦银萍, 宋晓伟, 陶海岩著
国防工业出版社 2018
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