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• 010 __ |a 978-7-03-041823-4 |b 圆脊精装 |d CNY188.00

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• 200 1_ |a 金刚石膜制备与应用 |A jin gang shi mo zhi bei yu ying yong |h 下卷 |f 吕反修主编

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2014.8

• 215 __ |a 736页 |c 图 |d 24cm

• 225 2_ |a 纳米科学与技术 |A na mi ke xue yu ji shu

• 330 __ |a 本卷为下卷。本书比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积（CVD）金刚石膜的制备、组织结构和性能表征，金刚石膜化学气相沉积理论，以及在电学（电子学）、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用，在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书分六篇、共29章，第一篇：金刚石膜的制备；第二篇：金刚石膜组织结构和性能表征；第三篇：金刚石膜化学气相沉积理论；第四篇：金刚石膜的应用；第五篇：纳米金刚石膜制备与应用；第六篇：金刚石相关材料的制备与应用

• 410 _0 |1 2001 |a 纳米科学与技术

• 606 0_ |a 类金刚石膜 |A Lei Jin Gang Shi Mo |x 研究

• 690 __ |a TB43 |v 4

• 701 _0 |a 吕反修 |A lu^ fan xiu |4 主编

• 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20150323

• 905 __ |a HDUL |d TB43/672:V2

• 920 __ |a 233030 |z 1