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- 010 __ |a 978-7-302-20959-1 |d CNY33.00
- 100 __ |a 20091215d2009 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 集成电路(IC)制程简论 |A ji cheng dian lu (Ic) zhi cheng jian lun |f 田民波编著
- 210 __ |a 北京 |c 清华大学出版社 |d 2009
- 215 __ |a 15, 244页 |c 图 |d 23cm
- 225 2_ |a 新材料及在高技术中的应用丛书 |A xin cai liao ji zai gao ji shu zhong de ying yong cong shu
- 312 __ |a 封面英文题名:Brief introduction to IC process
- 330 __ |a 本书以特征线宽130nm以下为重点,涉及集成电路制作工艺的各个方面,特别是包括短波长光源、步进与扫描照相曝光系统、CMP平坦化、双大马士革Cu布线、低-k介质材料、SoC与SiP等。
- 410 _0 |1 2001 |a 新材料及在高技术中的应用丛书
- 510 1_ |a Brief introduction to IC process |z eng
- 606 0_ |a 集成电路 |A ji cheng dian lu
- 701 _0 |a 田民波 |A tian min bo |4 编著
- 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20100903
- 856 4_ |u http://www.bookuu.com/kgsm/ts/2009/12/08/1642669.shtml
- 905 __ |a HDUL |d TN4/6731