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- 010 __ |a 978-7-5478-5720-5 |d CNY195.00
- 100 __ |a 20221009d2022 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 光学光刻和极紫外光刻 |f (德) 安迪·爱德曼著 |g 高伟民, 徐东波, 诸波尔译
- 210 __ |a 上海 |c 上海科学技术出版社 |d 2022.8
- 330 __ |a 本书是一本最新的光刻技术专著, 内容涉及该领域各个重要方面。在介绍光刻技术应用上, 作者涵盖了全面又丰富的内容。在论述光刻技术的物理机制和数学模型时, 作者采用了完整但不繁琐的方法, 增加了该书的可读性。该书在完整地解释了光学光刻技术的基本内容后, 专门开辟章节, 介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点, 揭示了极紫外光刻的技术奥秘。该书的特点是全面、完整、详实、新颖, 它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学之精华。
- 333 __ |a 本书可作为光学、微电子和材料工程等专业本科生的参考教材, 也可供光刻技术、激光与物质相互作用、激光等离子体等专业的研究生和教师, 以及从事芯片领域的专业技术人员、研发工程师和技术管理人员的参考
- 701 _1 |a 爱德曼 |g (Erdmann, Andreas) |4 著
- 801 _0 |a CN |b 三新书业 |c 20221010