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• 005 20211104152400.0

• 010 __ |a 978-7-111-68070-3 |d CNY98.00

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• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a ak a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 现代离子镀膜技术 |A xian dai li zi du mo ji shu |f 王福贞, 武俊伟等编著

• 210 __ |a 北京 |c 机械工业出版社 |d 2021

• 215 __ |a xiv, 370页 |c 图 |d 24cm

• 312 __ |a 英文并列题名取自封面

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书介绍了各种现代离子镀膜技术的原理、特点、装备、工艺、发展历程和应用。其主要内容包括真空物理和等离子体物理基础知识、真空蒸发镀膜技术、辉光放电离子镀膜技术、热弧光放电离子镀膜技术、阴极电弧离子镀膜技术、磁控溅射镀膜技术、带电粒子流在镀膜中的作用、等离子体增强化学气相沉积技术、等离子体聚合技术等，以及离子镀膜技术在太阳能利用、信息显示薄膜、装饰性薄膜、光学薄膜、硬质涂层、碳基薄膜、热电薄膜等领域和低温离子化学热处理中的应用。

• 510 1_ |a Modern ion plating technology |z eng

• 606 0_ |a 等离子涂层 |A deng li zi tu ceng |x 镀膜工艺

• 690 __ |a TG174.442 |v 5

• 701 _0 |a 王福贞 |A wang fu zhen |c (女) |4 编著

• 701 _0 |a 武俊伟 |A wu jun wei |4 编著

• 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20211104

• 905 __ |a HDUL |d TG174.442/132

• 920 __ |a 233030 |z 1