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• 200 1_ |a 薄膜真空沉积中的等离子体探测方法与技术 |A bo mo zhen kong chen ji zhong de deng li zi ti tan ce fang fa yu ji shu |d Plasma technique and analysis in thin film vacuum depositions |f 陈吉堃著 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2021

• 215 __ |a 148页 |c 图 (部分彩图) |d 24cm

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书结合作者的长期相关研究系统介绍了低温等离子体的常用探测方法; 重点结合脉冲激光沉积实例对等离子体与背景气体间复杂的物理碰撞与化学反应, 以及对薄膜沉积的基础性影响关系作详细介绍。

• 510 1_ |a Plasma technique and analysis in thin film vacuum depositions |z eng

• 606 0_ |a 低温 |A di wen |x 等离子体 |x 研究

• 690 __ |a O536 |v 5

• 701 _0 |a 陈吉堃 |A chen ji kun |4 著

• 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20220615

• 905 __ |a HDUL |d O536/740

• 920 __ |a 233030 |z 1