机读格式显示(MARC)

• 000 01685nam0 2200349 450

• 001 0000857424

• 005 20220926115700.0

• 010 __ |a 978-7-5159-1895-2 |b 精装 |d CNY128.00

• 100 __ |a 20220322d2021 em y0chiy50 ea

• 101 1_ |a chi |c eng

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a ak a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 先进等离子体技术 |A xian jin deng li zi ti ji shu |f (意) 里卡尔多·达阿戈斯蒂诺 ... [等] 著 |d Advanced plasma technology |f Riccardo d'Agostino ... [等] |g 刘佳琪, 任爱民, 邬润辉等译 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 中国宇航出版社 |d 2021

• 215 __ |a xiv, 382页 |c 图 |d 27cm

• 304 __ |a 题名页题: (意) 里卡尔多·达阿戈斯蒂诺, 彼得罗·法维亚, (日) 好伸·阿富, 伊代奥·伊凯加米, 乘吉·佐都等著

• 306 __ |a 航天科技图书出版基金资助出版 本书中文简体字版由著作权人授权中国宇航出版社独家出版发行

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书介绍了低气压和大气压等离子体技术在多个技术领域中的研究进展, 由等离子体技术研究领域知名科学家编写。主要内容包括等离子体在高分子材料、半导体、太阳能电池、生物材料、平面显示、水处理和火箭推进等技术领域的应用, 也包含等离子体生成与控制方法、等离子体源及反应器设计、等离子体诊断、等离子体应用建模和仿真等基础内容。

• 500 10 |a Advanced plasma technology |A Advanced plasma technology |m Chinese

• 606 0_ |a 等离子体应用 |A deng li zi ti ying yong |x 研究

• 690 __ |a O539 |v 5

• 701 _1 |a 达阿戈斯蒂诺 |A da a ge si di nuo |g (d'Agostino, Riccardo) |4 著

• 701 _1 |a 法维亚 |A fa wei ya |g (Favia, Pietro) |4 著

• 701 _0 |a 好伸·阿富 |A hao shen ·a fu |4 著

• 702 _0 |a 刘佳琪 |A liu jia qi |4 译

• 702 _0 |a 任爱民 |A ren ai min |4 译

• 702 _0 |a 邬润辉 |A wu run hui |4 译

• 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20220926

• 905 __ |a HDUL |d O539/375

• 920 __ |a 233030 |z 1