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• 010 __ |a 978-7-308-06617-4 |d CNY36.00

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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 半导体薄膜技术与物理 |A ban dao ti bo mo ji shu yu wu li |d Physics and technology of semiconductor thin films |f 叶志镇[等]编著 |z eng

• 210 __ |a 杭州 |c 浙江大学出版社 |d 2008

• 215 __ |a 278页 |c 图 |d 24cm

• 304 __ |a 著者还有：吕建国、吕斌、张银珠

• 330 __ |a 本书介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础，包括真空技术、蒸发、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延等内容。

• 510 1_ |a Physics and technology of semiconductor thin films |z eng

• 606 0_ |a 半导体膜 |x 薄膜

• 690 __ |a TN304.055 |v 4

• 701 _0 |a 叶志镇 |A ye zhi zhen |4 编著

• 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20091112

• 856 4_ |u http://www.bookuu.com/kgsm/ts/2009/03/24/1490689.shtml

• 905 __ |a HDUL |d TN304.055/648

• 920 __ |a 233030 |z 1