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- 010 __ |a 978-7-121-40226-5 |d CNY79.00
- 100 __ |a 20210105d2021 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 计算光刻与版图优化 |A ji suan guang ke yu ban tu you hua |f 韦亚一 ... [等] 著
- 210 __ |a 北京 |c 电子工业出版社 |d 2021
- 215 __ |a x, 238页 |c 图 |d 26cm
- 225 2_ |a 中国科学院大学研究生教学辅导书系列 |A zhong guo ke xue yuan da xue yan jiu sheng jiao xue fu dao shu xi lie |i 集成电路技术丛书
- 304 __ |a 著者还有: 粟雅娟, 董立松, 张利斌, 陈睿, 赵利俊
- 330 __ |a 本书共7章,首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍,接着介绍集成电路物理设计(版图设计)的全流程,然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计,最后介绍设计与工艺协同优化。
- 410 _0 |1 2001 |a 中国科学院大学研究生教学辅导书系列 |i 集成电路技术丛书
- 510 1_ |a Computational lithography & layout optimization |z eng
- 606 0_ |a 集成电路工艺 |A ji cheng dian lu gong yi |x 电子束光刻
- 701 _0 |a 韦亚一 |A wei ya yi |4 著
- 701 _0 |a 粟雅娟 |A su ya juan |4 著
- 701 _0 |a 董立松 |A dong li song |4 著
- 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20210407
- 905 __ |a HDUL |d TN405.98/511