机读格式显示(MARC)

• 000 01291nam 2200289 450

• 001 0000846299

• 005 20220328150200.0

• 010 __ |a 978-7-118-12284-8 |b 精装 |d CNY169.00

• 100 __ |a 20211228d2021 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a ak a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用 |A zhe she yan she wei guang xue jie gou de chan bu guang ke yu shi fa shi ke yuan li yu ying yong |f 张新宇, 谢长生著

• 210 __ |a 北京 |c 国防工业出版社 |d 2021

• 215 __ |a 211页 |c 图 |d 25cm

• 225 2_ |a 现代微纳米光电成像探测技术丛书 |A xian dai wei na mi guang dian cheng xiang tan ce ji shu cong shu

• 320 __ |a 有书目 (第209-211页)

• 330 __ |a 本书主要针对可见光、红外和太赫兹等谱域的折射与衍射微光学结构, 开展新的设计、工艺制作和测试评估方法的研究。重点论述了以折射和衍射微光学积分变换为基础, 有效出射可见光、红外及太赫兹多谱图像与波前的基础理论和基本方法, 建立了基于衍射相位精细构建在设计、仿真、工艺、测试与评估等方面的数据和方法体系。

• 410 _0 |1 2001 |a 现代微纳米光电成像探测技术丛书

• 606 0_ |a 刻蚀 |A ke shi |x 研究

• 690 __ |a TN405.98 |v 5

• 701 _0 |a 张新宇 |A zhang xin yu |4 著

• 701 _0 |a 谢长生 |A xie chang sheng |4 著

• 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20220328

• 905 __ |a HDUL |d TN405.98/103

• 920 __ |a 233030 |z 1