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- 000 01042nam0 2200265 450
- 010 __ |a 978-7-5646-4806-0 |d CNY48.00
- 100 __ |a 20210415d2020 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 磁场下复合电沉积法制备铁-硅镀层 |A ci chang xia fu he dian chen ji fa zhi bei tie - gui du ceng |f 龙琼著
- 210 __ |a 徐州 |c 中国矿业大学出版社 |d 2020
- 215 __ |a 129页 |c 图 |d 26cm
- 300 __ |a 国家自然科学基金地区科学基金项目资助 贵州理工学院高层次人才科研启动经费项目资助
- 320 __ |a 有书目 (第123-129页)
- 330 __ |a 本书共分为6章, 主要内容包含: 绪论, Fe-Si复合镀层制备研究方案, 无磁场下Fe-Si镀层的制备, 水平磁场下制备Fe-Si复合镀层, 竖直强磁场下制备Fe-Si复合镀层, 以及磁场下电化学研究电沉积铁过程等。本书所述内容具有前瞻性和实用性。
- 606 0_ |a 含硅合金 |A han gui he jin |x 镀层 |x 材料制备
- 701 _0 |a 龙琼 |A long qiong |4 著
- 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20210608
- 905 __ |a HDUL |d TG13/410