机读格式显示(MARC)

• 000 01400nam0 2200265 450

• 001 0000966502

• 010 __ |a 978-7-122-45663-2 |b 精装 |d CNY198.00

• 100 __ |a 20240726d2024 em y0chiy50 ea

• 101 1_ |a chi |c jpn |c eng |c dut

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a z 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 热丝化学气相沉积技术 |d Catalytic chemical vapor deposition |e technology and applications of Cat-CVD |f (日)松村英树(Hideki Matsumura)[等]著 |g 黄海宾，沈鸿烈等译 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2024.07

• 215 __ |a 345页 |c 图 |d 27cm

• 304 __ |a 著者还有：(日)梅本弘宣(Hironobu Umemoto)、(美)卡伦·格利森(Karen K. Gleason)、(荷)吕德·施罗普(Ruud E.I.Schropp)

• 305 __ |a 由Wiley授权出版

• 330 __ |a 本书系统介绍了Cat-CVD技术，括其基本原理、设备设计及应用。具体括Cat-CVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD的物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积(iCVD)合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用，后介绍了利用Cat-CVD腔室中产生的活性基团，在低温下进行半导体掺杂。

• 333 __ |a 化学气相沉积相关研究人员

• 510 1_ |a Catalytic chemical vapor deposition |e technology and applications of Cat-CVD |z eng

• 606 0_ |a 化学气相沉积

• 690 __ |a TG174.444 |v 5

• 701 _0 |c (日) |a 松村英树 |4 著

• 702 _0 |a 黄海宾 |4 译

• 702 _0 |a 沈鸿烈 |4 译