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• 010 __ |a 978-7-03-078124-6 |b 精装 |d CNY130.00

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• 200 1_ |a 先进计算光刻 |A xian jin ji suan guang ke |f 李艳秋[等]著

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2024

• 215 __ |a 233页 |c 图 |d 24cm

• 300 __ |a 国家科学技术学术著作出版基金资助出版

• 304 __ |a 著者还有：马旭、孙义钰、袁淼

• 330 __ |a 本书介绍作者在20余年从事光刻机研发中，建立的先进计算光刻技术，包括矢量计算光刻、快速－全芯片计算光刻、高稳定－高保真计算光刻、光源－掩模－工艺多参数协同计算光刻等，能够实现快速－高精度－全曝光视场－低误差敏感度的高性能计算光刻。

• 606 0_ |a 集成电路工艺 |A Ji Cheng Dian Lu Gong Yi |x 电子束光刻

• 690 __ |a TN405.98 |v 5

• 701 _0 |a 李艳秋 |A li yan qiu |4 著

• 801 _0 |a CN |b HDUL |c 20240626

• 905 __ |a HDUL |d TN405.98/452

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