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• 010 __ |a 7-03-018659-1 |d CNY75.00

• 010 __ |a 978-7-03-018659-1 |d CNY75.00

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• 101 1_ |a chi |c eng

• 102 __ |a CN |b 110000

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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 等离子体放电原理与材料处理 |A deng li zi ti fang dian yuan li yu cai liao chu li |f (美)迈克尔·A.力伯曼(Michael A. Lieberman)，阿伦·J.里登伯格(Allan J. Lichtenberg)著 |g 蒲以康等译

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2007.3

• 215 __ |a 34,585页 |d 24cm

• 225 2_ |a 工程技术丛书

• 300 __ |a 实用技术

• 305 __ |a 根据原书第二版译出

• 312 __ |a 英文原名：Principles of plasma discharges and materials processing

• 330 __ |a 本书阐述了等离子体物理和化学的基本原理及工业等离子体材料处理的原理，并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积，离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用，反映本领域的最新研究进展。

• 461 _0 |1 001003338790 |1 2001 |a 工程技术丛书

• 510 1_ |a Principles of plasma discharges and materials processing |z eng

• 606 0_ |a 放电

• 606 0_ |a 等离子体

• 606 0_ |a 等离子体 |x 放电

• 690 __ |a O461 |v 4

• 701 _1 |a 力伯曼 |b 迈克尔·A. |4 著

• 701 _1 |a 里登伯格 |b 阿伦·J. |4 著

• 701 A1 |a Lieberman |b Michael A. |4 著

• 701 A1 |a Lichtenberg |b Allan J. |4 著

• 702 _0 |a 蒲以康 |A pu yi kang |4 著

• 702 _0 |a 蒲以康 |4 译

• 905 __ |a HIEL |d O461/426

• 999 __ |a 22 |b 3 |e 07255