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题名/责任者:

半导体先进光刻理论与技术/(德) 安德里亚斯·爱德曼著 李思坤译

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2023

ISBN及定价:

978-7-122-43276-6 精装/CNY198.00

载体形态项:

304页:图 (部分彩图);24cm

并列正题名:

Optical and EUV lithography: a modeling perspective

个人责任者:

爱德曼 (Erdmann, Andreas) 著

个人次要责任者:

李思坤 译

学科主题:

半导体光电器件-光刻设备-研究

中图法分类号:

TN305.7

一般附注:

芯科技

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书是半导体先进光刻领域的综合性著作, 介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等 ; 介绍了光刻技术的前沿进展, 还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。书中融入了作者对光刻技术的宝贵理解与认识, 是作者多年科研与教学经验的结晶。

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