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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:98

题名/责任者:
半导体薄膜技术与物理/叶志镇[等]编著
出版发行项:
杭州:浙江大学出版社,2008
ISBN及定价:
978-7-308-06617-4/CNY36.00
载体形态项:
278页:图;24cm
并列正题名:
Physics and technology of semiconductor thin films
个人责任者:
叶志镇 编著
学科主题:
半导体膜-薄膜
中图法分类号:
TN304.055
题名责任附注:
著者还有:吕建国、吕斌、张银珠
提要文摘附注:
本书介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础,包括真空技术、蒸发、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延等内容。
电子资源:
http://www.bookuu.com/kgsm/ts/2009/03/24/1490689.shtml
全部MARC细节信息>>
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