MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：42
- 题名/责任者:
- MOS集成电路工艺与制造技术/潘桂忠编著
- 出版发行项:
- 上海:上海科学技术出版社,2012
- ISBN及定价:
- 978-7-5478-0980-8/CNY85.00
- 载体形态项:
- 489页;26cm
- 个人责任者:
- 潘桂忠 编著
- 学科主题:
- MOS集成电路
- 中图法分类号:
- TN432
- 提要文摘附注:
- 本书介绍了硅集成电路制造技术中的基础工艺，内容包括硅衬底与清洗、氧化、扩散、离子注人、外延、化学气相淀积、光刻与腐蚀/刻蚀、金属化与多层布线、表面钝化以及工艺集成制造技术等。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN432/345.2 | 71814869 | - |  自然书库（3F东）
|
可借 | 总借还书处（2F） |
| TN432/345.2 | 71814870 | - | 自然书库（3F东）
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可借 | |
| TN432/345.2 | 71814871 | - | 自然书库（3F东）
|
可借 |
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