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题名/责任者:

计算光刻与版图优化/韦亚一 ... [等] 著

出版发行项:

北京:电子工业出版社,2021

ISBN及定价:

978-7-121-40226-5/CNY79.00

载体形态项:

x, 238页:图;26cm

并列正题名:

Computational lithography & layout optimization

丛编项:

中国科学院大学研究生教学辅导书系列.集成电路技术丛书

个人责任者:

韦亚一 著

个人责任者:

粟雅娟 著

个人责任者:

董立松 著

学科主题:

集成电路工艺-电子束光刻

中图法分类号:

TN405.98

题名责任附注:

著者还有: 粟雅娟, 董立松, 张利斌, 陈睿, 赵利俊

相关题名附注:

英文并列题名取自封面

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍，接着介绍集成电路物理设计(版图设计)的全流程，然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计，最后介绍设计与工艺协同优化。

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