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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:73

题名/责任者:
折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用/张新宇, 谢长生著
出版发行项:
北京:国防工业出版社,2021
ISBN及定价:
978-7-118-12284-8 精装/CNY169.00
载体形态项:
211页:图;25cm
丛编项:
现代微纳米光电成像探测技术丛书
个人责任者:
张新宇
个人责任者:
谢长生
学科主题:
刻蚀-研究
中图法分类号:
TN405.98
书目附注:
有书目 (第209-211页)
提要文摘附注:
本书主要针对可见光、红外和太赫兹等谱域的折射与衍射微光学结构, 开展新的设计、工艺制作和测试评估方法的研究。重点论述了以折射和衍射微光学积分变换为基础, 有效出射可见光、红外及太赫兹多谱图像与波前的基础理论和基本方法, 建立了基于衍射相位精细构建在设计、仿真、工艺、测试与评估等方面的数据和方法体系。
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TN405.98/103 72426775   自然书库(3F东)     可借 自然书库(3F东)
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