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题名/责任者:

集成电路与光刻机/王向朝, 戴凤钊等著

出版发行项:

北京:科学出版社,2020

ISBN及定价:

978-7-03-065792-3/CNY58.00

载体形态项:

133页:图 (部分彩图);21cm

并列正题名:

Integrated circuit and lithographic tool

个人责任者:

王向朝 著

个人责任者:

戴凤钊 著

学科主题:

集成电路

学科主题:

光刻设备

中图法分类号:

TN4

责任者附注:

王向朝, 中国科学院上海光学精密机械研究所研究员。戴凤钊, 中国科学院上海光学精密机械研究所副研究员, 中国科学院青年创新促进会会员。

书目附注:

有书目 (第121-133页)

提要文摘附注:

本书介绍了集成电路与光刻机的发展历程。重点介绍了光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能、基本结构、工作原理、关键技术等。简要介绍了计算光刻技术。最后介绍了光刻机成像质量的提升与光刻机整机、分系统的技术进步。

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