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中文图书1.现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程 TN305.7/451
馆藏复本:3
可借复本:0 李艳丽,伍强编著
清华大学出版社 2024
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中文图书2.半导体先进光刻理论与技术 TN305.7/226
馆藏复本:1
可借复本:1 (德) 安德里亚斯·爱德曼著
化学工业出版社 2023
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中文图书3.激光热敏光刻:原理与方法:principle and method TN305.7/214
馆藏复本:4
可借复本:4 魏劲松著
清华大学出版社 2022
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中文图书4.产业专利分析报告.第84册,高端光刻机 G306.71/483:V85
馆藏复本:2
可借复本:2 国家知识产权局学术委员会组织编写
知识产权出版社 2022
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中文图书5.光刻巨人:ASML崛起之路 F456.366/144
馆藏复本:5
可借复本:5 (荷) 瑞尼·雷吉梅克著
人民邮电出版社 2020
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中文图书6.光刻机像质检测技术.上册 TN305.7/124:V2
馆藏复本:1
可借复本:0 王向朝, 戴凤钊等著
科学出版社 2021
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中文图书7.光刻机像质检测技术.下册 TN305.7/124
馆藏复本:1
可借复本:0 王向朝, 戴凤钊等著
科学出版社 2021
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中文图书8.集成电路与光刻机 TN4/124
馆藏复本:2
可借复本:2 王向朝, 戴凤钊等著
科学出版社 2020
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中文图书9.衍射极限附近的光刻工艺 TN305.7/210
馆藏复本:1
可借复本:0 伍强等编著
清华大学出版社 2020
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