MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：65
- 题名/责任者:
- 产业专利分析报告.第84册.高端光刻机/国家知识产权局学术委员会组织编写
- 出版发行项:
- 北京:知识产权出版社,2022
- ISBN及定价:
- 978-7-5130-8195-5/CNY70.00
- 载体形态项:
- 149页, 6页图版:图 (部分彩图);26cm
- 其它题名:
- 高端光刻机
- 团体责任者:
- 中国 国家知识产权局 学术委员会 组织编写
- 学科主题:
- 专利-研究报告-世界
- 学科主题:
- 光刻设备-专利-研究报告-世界
- 中图法分类号:
- G306.71
- 书目附注:
- 有索引
- 提要文摘附注:
- 本书从高端光刻机领域的发展概况、专利壁垒指数模型研究、竞争情报、主要技术分支专利等方面入手，结合相关数据展开分析，得出研究结论和相关建议。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| G306.71/483:V85 | 72479662 |  社会科学第二书库（8F）
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可借 | 社会科学第二书库（8F） | |
| G306.71/483:V85 | 72479663 | 社会科学第二书库（8F）
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可借 | 社会科学第二书库（8F） |
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