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题名/责任者:

集成电路与等离子体装备/赵晋荣[等]编

出版发行项:

北京:科学出版社,2024

ISBN及定价:

978-7-03-077546-7 精装/CNY168.00

载体形态项:

282页:图，彩照;24cm

并列正题名:

Integrated circuit and plasma based apparatus

个人责任者:

赵晋荣 编

学科主题:

集成电路

学科主题:

等离子刻蚀-设备

中图法分类号:

TN4

责任者附注:

主编：赵晋荣

提要文摘附注:

本书主要介绍了集成电路中与等离子体设备相关的内容，具体包括集成电路简史、分类和发展方向以及面临的挑战，气体放电的基本原理和典型应用、等离子体刻蚀工艺与设备、等离子体表面处理技术与设备、物理气相沉积设备与工艺、等离子体增强化学气相沉积工艺与设备、高密度等离子体化学气相沉积工艺与设备、炉管设备与工艺等。

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