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题名/责任者:

先进等离子体技术/(意) 里卡尔多·达阿戈斯蒂诺 ... [等] 著 刘佳琪, 任爱民, 邬润辉等译

出版发行项:

北京:中国宇航出版社,2021

ISBN及定价:

978-7-5159-1895-2 精装/CNY128.00

载体形态项:

xiv, 382页:图;27cm

统一题名:

Advanced plasma technology

个人责任者:

达阿戈斯蒂诺 (d'Agostino, Riccardo) 著

个人责任者:

法维亚 (Favia, Pietro) 著

个人责任者:

好伸·阿富 著

个人次要责任者:

刘佳琪 译

个人次要责任者:

任爱民 译

个人次要责任者:

邬润辉 译

学科主题:

等离子体应用-研究

中图法分类号:

O539

题名责任附注:

题名页题: (意) 里卡尔多·达阿戈斯蒂诺, 彼得罗·法维亚, (日) 好伸·阿富, 伊代奥·伊凯加米, 乘吉·佐都等著

出版发行附注:

航天科技图书出版基金资助出版 本书中文简体字版由著作权人授权中国宇航出版社独家出版发行

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书介绍了低气压和大气压等离子体技术在多个技术领域中的研究进展, 由等离子体技术研究领域知名科学家编写。主要内容包括等离子体在高分子材料、半导体、太阳能电池、生物材料、平面显示、水处理和火箭推进等技术领域的应用, 也包含等离子体生成与控制方法、等离子体源及反应器设计、等离子体诊断、等离子体应用建模和仿真等基础内容。

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