杭州电子科技大学图书馆书目检索系统

Online Public Access Catalogue

题名/责任者:

热丝化学气相沉积技术:technology and applications of Cat-CVD/(日)松村英树(Hideki Matsumura)[等]著 黄海宾，沈鸿烈等译

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2024.07

ISBN及定价:

978-7-122-45663-2 精装/CNY198.00

载体形态项:

345页:图;27cm

并列正题名:

Catalytic chemical vapor deposition:technology and applications of Cat-CVD

个人责任者:

(日) 松村英树 著

个人次要责任者:

黄海宾 译

个人次要责任者:

沈鸿烈 译

学科主题:

化学气相沉积

中图法分类号:

TG174.444

题名责任附注:

著者还有：(日)梅本弘宣(Hironobu Umemoto)、(美)卡伦·格利森(Karen K. Gleason)、(荷)吕德·施罗普(Ruud E.I.Schropp)

版本附注:

由Wiley授权出版

提要文摘附注:

本书系统介绍了Cat-CVD技术，括其基本原理、设备设计及应用。具体括Cat-CVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD的物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积(iCVD)合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用，后介绍了利用Cat-CVD腔室中产生的活性基团，在低温下进行半导体掺杂。

使用对象附注:

化学气相沉积相关研究人员

豆瓣简介：