检索到 122 条 分类号=TN305 的结果
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中文图书1.现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程 TN305.7/451
馆藏复本：3
可借复本：0 李艳丽，伍强编著
清华大学出版社 2024
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中文图书2.SMT单板互连可靠性与典型失效场景:全彩 TN305/155.4
馆藏复本：3
可借复本：3 贾忠中，张华，赵宗启著
电子工业出版社 2024
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中文图书3.光刻技术:here is why TN305.7/452
馆藏复本：2
可借复本：2 林本坚著
化学工业出版社 2024
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中文图书4.真空镀膜技术与应用 TN305.8/698
馆藏复本：3
可借复本：3 田灿鑫主编
武汉理工大学出版社 2024
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中文图书5.图解入门——半导体工作原理精讲 TN305/122
馆藏复本：5
可借复本：5 (日)西久保靖彦著
机械工业出版社 2024
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中文图书6.半导体干法刻蚀技术:原子层工艺 TN305.7/420
馆藏复本：5
可借复本：5 (美)索斯藤·莱尔著
机械工业出版社 2023
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中文图书7.图解入门,半导体器件缺陷与失效分析技术精讲 TN305/129
馆藏复本：3
可借复本：3 (日)可靠性技术丛书编辑委员会主编
机械工业出版社 2024
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中文图书8.半导体干法刻蚀技术 TN305.7/671
馆藏复本：3
可借复本：3 (日)野尻一男著
机械工业出版社 2024
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中文图书9.图解入门:功率半导体基础与工艺精讲 TN305/243.2/2
馆藏复本：3
可借复本：3 (日)佐藤淳一著
机械工业出版社 2023
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中文图书10.半导体制造过程的批间控制和性能监控 TN305/840
馆藏复本：2
可借复本：2 郑英，王妍，凌丹著
科学出版社 2023
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中文图书11.半导体湿法刻蚀加工技术 TN305.7/710
馆藏复本：3
可借复本：3 陈云,陈新著
科学出版社 2023
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中文图书12.半导体先进光刻理论与技术 TN305.7/226
馆藏复本：1
可借复本：1 (德) 安德里亚斯·爱德曼著
化学工业出版社 2023
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中文图书13.等离子体刻蚀工艺及设备 TN305.7/414
馆藏复本：3
可借复本：3 主编赵晋荣
电子工业出版社 2023
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中文图书14.智能制造SMT设备操作与维护 TN305.94/827
馆藏复本：5
可借复本：5 余佳阳, 汤鹏主编
化学工业出版社 2023
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中文图书15.激光热敏光刻:原理与方法:principle and method TN305.7/214
馆藏复本：4
可借复本：4 魏劲松著
清华大学出版社 2022
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中文图书16.图解入门:半导体制造设备基础与构造精讲 TN305/243.3
馆藏复本：5
可借复本：5 (日) 佐藤淳一著
机械工业出版社 2022
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中文图书17.现代电子装联整机工艺技术.第2版 TN305.93/460.2
馆藏复本：4
可借复本：4 李晓麟著
电子工业出版社 2022
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中文图书18.图解入门,功率半导体基础与工艺精讲 TN305/243.2
馆藏复本：4
可借复本：4 (日) 佐藤淳一著
机械工业出版社 2022
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中文图书19.极紫外光刻 TN305.7/404
馆藏复本：4
可借复本：4 (美) 哈利·杰·莱文森著
上海科学技术出版社 2022
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中文图书20.图解入门:半导体制造工艺基础精讲 TN305/243
馆藏复本：4
可借复本：4 (日) 佐藤淳一著
机械工业出版社 2022
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