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题名/责任者:

光学光刻和极紫外光刻/(德) 安迪·爱德曼著 高伟民, 徐东波, 诸波尔译

出版发行项:

上海:上海科学技术出版社,2022.8

ISBN及定价:

978-7-5478-5720-5/CNY195.00

载体形态项:

170页;27cm

个人责任者:

爱德曼 (Erdmann, Andreas) 著

个人次要责任者:

高伟民 译

个人次要责任者:

徐东波 译

个人次要责任者:

诸波尔 译

学科主题:

光学－光刻系统－研究

学科主题:

紫外线－光刻系统－研究

中图法分类号:

TN305.7

提要文摘附注:

本书是一本最新的光刻技术专著, 内容涉及该领域各个重要方面。在介绍光刻技术应用上, 作者涵盖了全面又丰富的内容。在论述光刻技术的物理机制和数学模型时, 作者采用了完整但不繁琐的方法, 增加了该书的可读性。该书在完整地解释了光学光刻技术的基本内容后, 专门开辟章节, 介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点, 揭示了极紫外光刻的技术奥秘。该书的特点是全面、完整、详实、新颖, 它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学之精华。

使用对象附注:

本书可作为光学、微电子和材料工程等专业本科生的参考教材, 也可供光刻技术、激光与物质相互作用、激光等离子体等专业的研究生和教师, 以及从事芯片领域的专业技术人员、研发工程师和技术管理人员的参考

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