MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：51
- 题名/责任者:
- 等离子体刻蚀工艺及设备/主编赵晋荣
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2023
- ISBN及定价:
- 978-7-121-45018-1 精装/CNY98.00
- 载体形态项:
- XIV, 164页:图;24cm
- 丛编项:
- 集成电路系列丛书.集成电路产业专用装备
- 个人责任者:
- 赵晋荣 主编
- 学科主题:
- 等离子刻蚀-工艺学
- 学科主题:
- 等离子刻蚀-设备
- 中图法分类号:
- TN305.7
- 一般附注:
- 工信学术出版基金 集成电路产业知识赋能工程
- 相关题名附注:
- 英文题名取自封面
- 提要文摘附注:
- 本书共8章, 内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺、等离子体刻蚀机、等离子体测试和表征、等离子体仿真、颗粒控制和量产。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN305.7/414 | 72560945 |  自然书库（3F东）
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可借 | 自然书库（3F东） | |
| TN305.7/414 | 72560946 | 自然书库（3F东）
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可借 | 自然书库（3F东） | |
| TN305.7/414 | 72560947 | 自然书库（3F东）
|
可借 | 自然书库（3F东） |
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